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玻璃基板用等离子体设备处理非但不改变表面活性还起到清洁效果

玻璃基板用等离子体设备处理非但不改变表面活性还起到清洁效果编辑整理,该内容来源于等离子百科;2023/6/15 23:23:18完成编辑。此内容标签;更多请点击查看;

玻璃基板用等离子体设备处理非但不改变表面活性还起到清洁效果:

当玻璃基板处于等离子体中时,由于表层受到等离子体中荷能粒(电)子的轰击,基板表面吸附的条件气体、水蒸汽和污垢首先被轰炸,使表层洁净活化,表层得到改善。沉积时,薄膜原子或大分子更好地渗透基板,增加范德华力。其次,玻璃基板表层受到荷能粒(电)子的冲击,从微观上看看,基板表层会建立许多凹坑和孔隙。在沉积过程中,薄膜原子或大分子进入这些凹坑,产生机械锁紧力。此外,基板表层的粗化增加了实际表面积,有利于增加范德华力、扩散附着力和静电力,从而增加了整体附着力。

玻璃用等离子体设备处理后,基板表层洁净活化,改善表层,不仅有效清除吸附在玻璃基板上的条件气体大分子、水蒸汽和污垢,在基板表层建立洁净活化的微粗燥表层,而且避免二次污染。

用等离子体设备处理工程技术主要利用各种表面涂层和表面改性技术,赋予基体材料所不具备的特殊机械、物理或化学性能。如高硬度、高耐磨性、耐腐蚀性、耐高温氧化性、抗辐射性等。此外,用等离子体设备表面工程技术是一种涉及机械、电子、化工、物料、真空、冶金、表层物理、固体物理、等离子体物理、电化学等学科的边缘技术。它融入了这些学科的理论和最新的技术成果中。

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